專利申請過程會遇到哪些誤區(qū)

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　　專利申請過程會遇到哪些誤區(qū)?專利申請過程會出現(xiàn)很多問題，如果不了解專利如何申請，很容易踏進(jìn)誤區(qū)，浪費(fèi)功夫。那么專利申請中，誤區(qū)有哪些有礙申請進(jìn)程需要及時地改進(jìn)?

　　專利申請過程會遇到哪些誤區(qū)

　　誤區(qū)一：自主研發(fā)的成果不需申請專利

　　一些技術(shù)人員認(rèn)為只要是自主創(chuàng)新，就有了自主知識產(chǎn)權(quán)。其實(shí)不然，專利是一種壟斷權(quán)，自主研發(fā)的技術(shù)成果如果不申請專利，就得不到法律確認(rèn)和保護(hù)。

　　誤區(qū)二：投入規(guī)模生產(chǎn)后才申請專利

　　有部分發(fā)明人認(rèn)為申請了一項(xiàng)專利后，就可“高枕無憂”，從而忽視了后期的繼續(xù)研發(fā)工作，即使開發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進(jìn)，也不再申請專利。

　　誤區(qū)三：專利產(chǎn)品改進(jìn)不需再申請專利

　　在與發(fā)明人就申請專利的技術(shù)內(nèi)容進(jìn)行交流時，他們中有很多人都有這樣的想法：這一技術(shù)方案還未投入生產(chǎn)，也沒有產(chǎn)品問世，此時申請專利是為時過早，等產(chǎn)品大規(guī)模投入生產(chǎn)后再申請專利更合適。

　　誤區(qū)四：一項(xiàng)成果只能申請一類專利

　　有部分發(fā)明人認(rèn)為一項(xiàng)技術(shù)成果一次只能申請一類專利，即只能申請發(fā)明專利或只能申請實(shí)用新型專利或者只能申請外觀設(shè)計專利。

　　誤區(qū)五：專利申請是保護(hù)成果惟一方法

　　這是因?yàn)楹芏嗳藢�技術(shù)成果保護(hù)的方法不太清楚。對技術(shù)成果的保護(hù)可以采用兩種方式：申請專利通過法律加以保護(hù)和通過技術(shù)秘密由技術(shù)持有人自己加以保護(hù)，兩者各有利弊。

　　誤區(qū)六：有專利證書等于有效的專利權(quán)

　　這是多數(shù)專利權(quán)人的普遍認(rèn)識誤區(qū)。

　　誤區(qū)七：技術(shù)方案交待不清楚

　　很多單位的發(fā)明人提交的專利申請文件非常簡單，有的甚至只有幾句話，技術(shù)方案完全沒有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請文件帶來很大困難。

　　誤區(qū)八：專利申請前不做任何檢索

　　有些發(fā)明人提交的專利申請文件沒有做查新檢索，對技術(shù)方案的新穎性如何不確定，根本不知道其技術(shù)方案有沒有公開過或公開使用過，這也是我國技術(shù)人員的通病——信息檢索和收集信息的能力極低。

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