專利權(quán)利要求書的主要內(nèi)容

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　　專利權(quán)利要求書是申請發(fā)明專利和申請實用新型專利必須提交的申請文件。專利權(quán)利要求書的內(nèi)容主要包括前序部分、特征部分和專利保護范圍。該部分由說明書中的技術(shù)方案而來，應當以說明書為依據(jù)，清楚、簡要地限定要求專利保護的范圍。權(quán)書必須有獨立權(quán)利要求，可以有從屬權(quán)利要求。從屬權(quán)利要求是對獨立權(quán)利要求的進一步限定。

　　(1)前序部分：寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦鸵�求保護的主題名稱和該項發(fā)明或?qū)嵱眯滦团c現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征;

　　(2) 特征部分：寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛥^(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)特征，這是權(quán)利要求的核心內(nèi)容，這部分應緊接前序部分，用“其特征是”或者類似用語與上文聯(lián)接。

　　(3)寫明要求專利保護的范圍。

　　如何寫獨權(quán)?獨權(quán)是解決技術(shù)問題的所有必要技術(shù)特征的總和。所謂必要技術(shù)特征，就是必須要有的，缺他不可的。這里有一個判斷是否包含所有必要技術(shù)特征的標準：將獨權(quán)中任何一個技術(shù)特征去掉，該方案是否還能解決技術(shù)問題。如果能解決，那這個去掉的技術(shù)特征就不是必要技術(shù)特征，沒必要存在于獨權(quán)里。如果不能解決，那這個技術(shù)特征就是必要技術(shù)特征。

　　在獨權(quán)里，每多寫一個不必要的字都是在為該專利減分，多一個非必要技術(shù)特征，專利權(quán)的保護范圍就變小一些，保護范圍的變小則會使專利的價值打折扣。所以獨權(quán)的撰寫非�？简炓粋�撰寫者的技術(shù)能力。如果不是吃透了整個技術(shù)方案，是不會寫出高質(zhì)量的獨權(quán)來的。

　　有些時候，出于對發(fā)明創(chuàng)造更廣泛的保護，還會采取撰寫多個獨權(quán)的方式。常見的有“一種XX的方法及設備”、“一種XX及利用XX制作的設備”等。無論是方法獨權(quán)還是產(chǎn)品獨權(quán)，一定要符合單一性才可以在一件申請中出現(xiàn)。至于從權(quán)如何撰寫，筆者認為只要獨權(quán)寫得好，從權(quán)無非就是裝飾，避免獨權(quán)“寂寞”。(注：也存在獨權(quán)有缺陷但通過從權(quán)修改彌補缺陷的，通常只有在方案本身新創(chuàng)性不足時采用該方法，其他時候獨權(quán)的好壞直接決定專利價值。)

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文章名稱：專利權(quán)利要求書的主要內(nèi)容

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